Etude SoonJung Panthensoside Sheet Mask - 25 ml

Zklidňující bambusová pleťová maska Etude SoonJung Panthensoside Sheet Mask Určeno pro citlivou a podrážděnou pleť. Receptura na bázi panthenolu, madekassosidu a Centella Asiatica intenzivně zklidňuje, regeneruje a hydratuje, přináší úlevu unavené pleti.

Etude SoonJung Panthensoside Sheet Mask je maska určená pro pleť, která vyžaduje jemnou péči. Minimalistické složení s bambusovým plátkem perfektně přilne k obličeji a dodává intenzivní dávku zklidňujících a regeneračních aktivních složek. Maska obohacená o panthenol, madekasoosid a extrakt z Centella Asiatica účinně zklidňuje podráždění, podporuje regeneraci a poskytuje hlubokou hydrataci. Ideální pro použití po náročném dni nebo jako součást pravidelné péče o citlivou pleť.

Složky, které si zamilujete:

• Panthenol – intenzivně hydratuje, zklidňuje a podporuje regeneraci pokožky.
• Madekasoidsid – složka z Centella Asiatica, má protizánětlivé a regenerační účinky.
• Extrakt z Centella asiatica – zklidňuje podráždění a stimuluje regenerační procesy.
• Allantoina – zklidňuje podrážděnou pokožku a minimalizuje zarudnutí.
• Trehalóza a arginin – hydratují, zjemňují a posilují kožní bariéru.

Účel:

Maska určená pro citlivou, cévnatou, podrážděnou a suchou pokožku. Ideální pro použití po opalování, po kosmetických zákrocích nebo když pokožka potřebuje zklidnění a regeneraci. Vhodná pro pravidelnou péči jako součást zklidňujícího rituálu.

Způsob použití:

Masku naneste na očištěnou pleť, a přizpůsobte ji tvaru pokožky. Nechte působit 15–20 minut, poté masku sejměte a zbytky esence jemně vklepejte do pokožky. Neoplachujte. Před prvním použitím proveďte test citlivosti.

Složení:

Voda, Dipropylenglykol,1,2-Hexandiol, Panthenol, Madekassosid, Extrakt z listů Centella Asiatica, Karbomer, Polyglyceryl-10 Laurát, Glycerin, Polyglyceryl-10 Myristate, Allantoin, Arginine, Trehalose, Ethylhexylglycerin, Disodium EDTA.